Elemen Pemanas salutan CVD SiC

Elemen Pemanas salutan CVD SiC memainkan peranan teras dalam memanaskan bahan dalam relau PVD (Evaporation Deposition). VeTek Semiconductor ialah pengeluar Elemen Pemanas bersalut CVD SiC terkemuka di China. Kami mempunyai keupayaan salutan CVD termaju dan boleh menyediakan anda dengan produk salutan CVD SiC tersuai. VeTek Semiconductor berharap untuk menjadi rakan kongsi anda dalam Elemen Pemanas bersalut SiC.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Elemen Pemanas salutan CVD SiC digunakan terutamanya dalam peralatan PVD (pemendapan wap fizikal). Dalam proses penyejatan, bahan dipanaskan untuk mencapai penyejatan atau sputtering, dan akhirnya filem nipis seragam terbentuk pada substrat.

Ⅰ.Aplikasi khusus

Pemendapan filem nipis: Salutan CVD SiC Elemen Pemanas digunakan dalam sumber penyejatan atau sumber percikan. Dengan pemanasan, unsur memanaskan bahan yang akan didepositkan ke suhu yang tinggi, supaya atom atau molekulnya dipisahkan daripada permukaan bahan, seterusnya membentuk wap atau plasma. Salutan SiC berasaskan Elemen Pemanas kami juga boleh terus memanaskan beberapa bahan logam atau seramik untuk menyejat atau menyublimkannya dalam persekitaran vakum untuk digunakan sebagai sumber bahan dalam proses PVD. Kerana struktur mempunyai alur sepusat, ia boleh mengawal laluan semasa dan pengagihan haba dengan lebih baik untuk memastikan keseragaman pemanasan.

Schematic diagram of the evaporation PVD process

Gambarajah skematik proses PVD penyejatan

Ⅱ.Prinsip kerja

Pemanasan rintangan, apabila arus melalui laluan rintangan pemanas bersalut sic, haba Joule dijana, dengan itu mencapai kesan pemanasan. Struktur sepusat membolehkan arus diagihkan secara sama rata. Peranti kawalan suhu biasanya disambungkan kepada elemen untuk memantau dan melaraskan suhu.

Ⅲ.Reka bentuk bahan dan struktur

Elemen Pemanas salutan CVD SiC diperbuat daripada grafit ketulenan tinggi dan salutan SiC untuk mengatasi persekitaran suhu tinggi. Grafit ketulenan tinggi itu sendiri telah digunakan secara meluas sebagai bahan medan haba. Selepas lapisan salutan digunakan pada permukaan grafit dengan kaedah CVD, kestabilan suhu tinggi, rintangan kakisan, kecekapan haba dan ciri-ciri lain dipertingkatkan lagi.

CVD SiC coating CVD SiC coating Heating Element

Reka bentuk alur sepusat membolehkan arus membentuk gelung seragam pada permukaan cakera. Ia mencapai pengagihan haba yang seragam, mengelakkan terlalu panas tempatan yang disebabkan oleh kepekatan di kawasan tertentu, mengurangkan kehilangan haba tambahan yang disebabkan oleh kepekatan semasa, dan dengan itu meningkatkan kecekapan pemanasan.

Elemen Pemanas salutan CVD SiC terdiri daripada dua kaki dan satu badan. Setiap kaki mempunyai benang yang menyambung ke bekalan kuasa. VeTek Semiconductor boleh membuat bahagian satu keping atau bahagian terbelah, iaitu kaki dan badan dibuat secara berasingan dan kemudian dipasang. Tidak kira apa keperluan anda untuk Pemanas bersalut CVD SiC, sila rujuk kami. VeTekSemi boleh menyediakan produk yang anda perlukan.

Sifat fizikal asas salutan SiC CVD:

Sifat fizikal asas salutan SiC CVD
Harta benda	Nilai Biasa
Struktur Kristal	Polihablur fasa FCC β, terutamanya berorientasikan (111).
Ketumpatan	3.21 g/cm³
Kekerasan	2500 Vickers kekerasan（500g beban）
Saiz Bijirin	2~10μm
Ketulenan Kimia	99.99995%
Kapasiti Haba	640 J·kg^-1·K^-1
Suhu Sublimasi	2700 ℃
Kekuatan lentur	415 MPa RT 4 mata
Modulus Muda	430 Gpa selekoh 4pt, 1300℃
Kekonduksian Terma	300W·m^-1·K^-1
Pengembangan Terma(CTE)	4.5×10^-6K^-1