Kepala Pancuran SiC berbentuk cakera pepejal

Peranan Kepala Pancuran SiC Pepejal berbentuk Cakera dalam proses CVD adalah untuk mengagihkan gas tindak balas secara sama rata di atas kawasan pemendapan supaya gas dapat disebarkan secara sama rata ke seluruh reaktor untuk mendapatkan filem yang rata dan seragam.

Kepala Pancuran SiC Pepejal ditetapkan di bahagian atas relau CVD atau berhampiran salur masuk gas. Gas tindak balas memasuki struktur berbentuk cakera melalui lubang yang diedarkan pada Kepala Pancuran dan meresap di sekeliling sepanjang permukaan Kepala Pancuran. Melalui reka bentuk berbilang saluran dan alur keluar sama rata, gas tindak balas boleh mengalir sama rata ke seluruh kawasan reaktor, mengelakkan kepekatan atau pergolakan, dan memastikan ketekalan ketebalan lapisan yang dimendapkan pada substrat.

Pada masa yang sama, struktur Kepala Pancuran Bentuk Cakera Semikonduktor juga mempunyai kesan resapan, yang boleh mengurangkan kadar aliran gas secara berkesan, supaya ia dapat disebarkan secara merata di saluran keluar muncung, dan mengurangkan kesan gas tempatan. perubahan aliran pada kesan pemendapan. Ia membantu untuk mengelakkan kesan gas langsung pada substrat dan mengelakkan masalah pemendapan tidak sekata.

Dari perspektif bahan, Kepala Pancuran Gas SiC Pepejal diperbuat daripada bahan SiC Pepejal yang tahan suhu tinggi, tahan kakisan dan berkekuatan tinggi dengan kestabilan yang sangat tinggi. Ia boleh berfungsi dengan stabil untuk masa yang lama dalam relau CVD dan mempunyai hayat perkhidmatan yang panjang.

Semikonduktor VeTekmenyediakan perkhidmatan tersuai berkualiti tinggi. Susun atur bentuk dan lubang Kepala Pancuran SiC berbentuk Cakera Pepejal boleh dilaraskan secara fleksibel mengikut keperluan proses pelanggan untuk menyesuaikan diri dengan jenis gas, kadar aliran dan bahan pemendapan yang berbeza. Untuk saiz reaktor atau saiz substrat yang berbeza, kepala pancuran mandian berbentuk cakera dengan diameter dan pengagihan lubang yang berbeza boleh disesuaikan untuk mengoptimumkan kesan pengagihan gas.

Semikonduktor VeTekmempunyai proses matang dan teknologi canggih untuk produk Solid SiC Semiconductor Shower Head, membantu sebilangan besar pelanggan mencapai kemajuan berterusan dalam proses CVD. VeTek Semiconductor berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Sifat fizikal SiC Pepejal

Semikonduktor VeTekKedai pengeluaran Kepala Pancuran berbentuk cakera SiC pepejal