Apakah Salutan Tantalum Carbide?

Bahan seramik Tantalum karbida (TaC) mempunyai takat lebur sehingga 3880 ℃ dan merupakan sebatian dengan takat lebur yang tinggi dan kestabilan kimia yang baik. Ia boleh mengekalkan prestasi yang stabil dalam persekitaran suhu tinggi. Di samping itu, ia juga mempunyai rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan kimia, dan keserasian kimia dan mekanikal yang baik dengan bahan karbon, menjadikannya bahan salutan pelindung substrat grafit yang ideal. 

Salutan karbida tantalum boleh melindungi komponen grafit dengan berkesan daripada kesan ammonia panas, hidrogen, wap silikon, dan logam lebur dalam persekitaran penggunaan yang keras, memanjangkan hayat perkhidmatan komponen grafit dengan ketara dan menyekat penghijrahan kekotoran dalam grafit, memastikan kualitiepitaxialdanpertumbuhan kristal.

Rajah 1. Komponen Bersalut Tantalum Carbide Biasa

Pemendapan wap kimia (CVD) ialah kaedah yang paling matang dan optimum untuk menghasilkan salutan TaC pada permukaan grafit.

Menggunakan TaCl5 dan Propylene sebagai sumber karbon dan tantalum masing-masing, dan argon sebagai gas pembawa, wap TaCl5 terwap suhu tinggi dimasukkan ke dalam ruang tindak balas. Pada suhu dan tekanan sasaran, wap bahan prekursor menjerap pada permukaan grafit, menjalani satu siri tindak balas kimia yang kompleks seperti penguraian dan gabungan sumber karbon dan tantalum, serta satu siri tindak balas permukaan seperti resapan dan desorpsi hasil sampingan prekursor. Akhirnya, lapisan pelindung padat terbentuk pada permukaan grafit, yang melindungi grafit daripada kewujudan stabil di bawah keadaan persekitaran yang melampau dan meluaskan senario penggunaan bahan grafit dengan ketara.

Rajah 2.Prinsip proses pemendapan wap kimia (CVD).

Semikonduktor VeTekterutamanya menyediakan produk tantalum karbida: cincin panduan TaC, cincin tiga kelopak bersalut TaC, mangkuk salutan TaC, grafit berliang lapisan TaC digunakan secara meluas ialah proses pertumbuhan kristal SiC; Grafit Berliang dengan Bersalut TaC, Cincin Panduan Bersalut TaC, Pembawa Wafer Grafit Bersalut TaC, Susceptor salutan TaC, susceptor planet, susceptor satelit bersalut TaC, Dan produk salutan tantalum karbida ini digunakan secara meluas dalamProses epitaksi SiCdanProses Pertumbuhan Kristal Tunggal SiC.

Rajah 3.VeTek Produk Salutan Tantalum Carbide Paling Popular Semiconductor