Apakah perbezaan antara CVD TaC dan TaC tersinter?

1. Apakah tantalum karbida?

Tantalum karbida (TaC) ialah sebatian binari yang terdiri daripada tantalum dan karbon dengan formula empirik TaCX, di mana X biasanya berbeza dalam julat 0.4 hingga 1. Ia adalah bahan seramik refraktori konduktif logam yang sangat keras dan rapuh. Ia adalah serbuk coklat-kelabu, biasanya disinter. Sebagai bahan seramik logam yang penting, tantalum karbida digunakan secara komersil untuk alat pemotong dan kadangkala ditambah kepada aloi tungsten karbida.

Rajah 1. Bahan Mentah Tantalum Carbide

Seramik tantalum karbida ialah seramik yang mengandungi tujuh fasa kristal tantalum karbida. Formula kimianya ialah TaC, kekisi kubik berpusat muka.

Rajah 2.Tantalum karbida - Wikipedia

Ketumpatan teori ialah 1.44, takat lebur ialah 3730-3830℃, pekali pengembangan haba ialah 8.3×10-6, modulus elastik ialah 291GPa, kekonduksian terma ialah 0.22J/cm·S·C, dan takat lebur puncak tantalum karbida adalah sekitar 3880 ℃, bergantung pada ketulenan dan keadaan pengukuran. Nilai ini adalah yang tertinggi di antara sebatian binari.

Rajah 3.Pemendapan Wap Kimia Tantalum Carbide dalam TaBr5&ndash

2. Seberapa kuat tantalum karbida?

Dengan menguji kekerasan Vickers, keliatan patah dan ketumpatan relatif bagi satu siri sampel, dapat ditentukan bahawa TaC mempunyai sifat mekanikal terbaik pada 5.5GPa dan 1300℃. Ketumpatan relatif, keliatan patah dan kekerasan Vickers TaC ialah 97.7%, 7.4MPam1/2 dan 21.0GPa masing-masing.

Tantalum karbida juga dipanggil seramik tantalum karbida, yang merupakan sejenis bahan seramik dalam erti kata yang luas;kaedah penyediaan tantalum karbida termasukCVDkaedah, kaedah pensinteran, dsb. Pada masa ini, kaedah CVD lebih biasa digunakan dalam semikonduktor, dengan ketulenan tinggi dan kos tinggi.

3. Perbandingan antara tantalum karbida tersinter dan karbida tantalumCVD

Dalam teknologi pemprosesan semikonduktor, tantalum karbida tersinter dan pemendapan wap kimia (CVD) tantalum karbida adalah dua kaedah biasa untuk menyediakan tantalum karbida, yang mempunyai perbezaan yang ketara dalam proses penyediaan, struktur mikro, prestasi dan aplikasi.

3.1 Proses penyediaan

Tantalum karbida tersinter: Serbuk tantalum karbida disinter di bawah suhu tinggi dan tekanan tinggi untuk membentuk bentuk. Proses ini melibatkan ketumpatan serbuk, pertumbuhan bijirin dan penyingkiran kekotoran.

CVD tantalum karbida: Tantalum karbida pelopor gas digunakan untuk bertindak balas secara kimia pada permukaan substrat yang dipanaskan, dan filem tantalum karbida dimendapkan lapisan demi lapisan. Proses CVD mempunyai keupayaan kawalan ketebalan filem yang baik dan keseragaman komposisi.

3.2 Struktur Mikro

Tantalum karbida tersinter: Secara amnya, ia adalah struktur polihabluran dengan saiz butiran dan liang yang besar. Struktur mikronya dipengaruhi oleh faktor seperti suhu pensinteran, tekanan dan ciri serbuk.

CVD tantalum karbida: Ia biasanya merupakan filem polihabluran padat dengan saiz butiran yang kecil dan boleh mencapai pertumbuhan yang sangat berorientasikan. Struktur mikro filem dipengaruhi oleh faktor-faktor seperti suhu pemendapan, tekanan gas, dan komposisi fasa gas.

3.3 Perbezaan prestasi

Rajah 4. Perbezaan Prestasi antara TaC Tersinter dan TaCCVD

3.4 Aplikasi

tantalum karbida tersinter: Oleh kerana kekuatannya yang tinggi, kekerasan yang tinggi dan rintangan suhu tinggi, ia digunakan secara meluas dalam alat pemotong, bahagian tahan haus, bahan struktur suhu tinggi dan bidang lain. Sebagai contoh, tantalum karbida tersinter boleh digunakan untuk mengeluarkan alat pemotong seperti gerudi dan pemotong pengilangan untuk meningkatkan kecekapan pemprosesan dan kualiti permukaan bahagian.

CVD tantalum karbida: Oleh kerana sifat filem nipisnya, lekatan dan keseragaman yang baik, ia digunakan secara meluas dalam peranti elektronik, bahan salutan, pemangkin dan bidang lain. Sebagai contoh, karbida tantalum CVD boleh digunakan sebagai penyambung untuk litar bersepadu, salutan tahan haus dan pembawa pemangkin.

------------------------------------------------- ------------------------------------------------- ------------------------------------------------- ------------------------------------------------- ------------------------------------------------- ------------------------------

Sebagai pengeluar, pembekal dan kilang salutan tantalum karbida, VeTek Semiconductor ialah pengeluar terkemuka bahan salutan tantalum karbida untuk industri semikonduktor.

Produk utama kami termasukBahagian bersalut tantalum karbidaCVD, bahagian bersalut TaC tersinter untuk pertumbuhan kristal SiC atau proses epitaksi semikonduktor. Produk utama kami ialah Tantalum Carbide Coated Guide Rings, TaC Coated Guide Rings, TaC Coated Half Moon Parts, Tantalum Carbide Coated Planetary Rotating Disks (Aixtron G10), TaC Coated Crucibles; Cincin Bersalut TaC; Grafit Berliang Bersalut TaC; Susceptors Grafit Bersalut Tantalum Carbide; Cincin Panduan Bersalut TaC; Plat Bersalut TaC Tantalum Carbide; Susceptors Wafer Bersalut TaC; Penutup Grafit Bersalut TaC; Blok Bersalut TaC, dsb., dengan ketulenan kurang daripada 5ppm untuk memenuhi keperluan pelanggan.

Rajah 5. Produk Salutan TaC Terlaris VeTek Semiconductor

VeTek Semiconductor komited untuk menjadi inovator dalam industri Salutan Karbida Tantalum melalui penyelidikan berterusan dan pembangunan teknologi lelaran. 

Jika anda berminat dengan produk TaC, sila hubungi kami terus.

Mob: +86-180 6922 0752

WhatsApp: +86 180 6922 0752

E-mel: anny@veteksemi.com