Grafit Berliang Termaju

Advanced Porous Graphite, seperti namanya, adalah sejenis grafit yang mengandungi lompang atau liang yang saling berkaitan dalam strukturnya. Saiz liang ini boleh berbeza-beza, yang mempengaruhi ciri prestasi bahan.

Ciri-ciri Grafit Berliang Termaju:

Kawasan Permukaan yang Besar dan Kapasiti Penjerapan yang Kuat: Salah satu kelebihan grafit berliang yang paling menonjol ialah luas permukaannya yang lebih besar berbanding grafit tidak berliang, yang menjadikannya sangat penjerap.

Kekonduksian haba dan elektrik yang sangat baik: Grafit berliang mempunyai kekonduksian haba dan elektrik yang sangat baik. Sifat ini amat penting dalam aplikasi yang memerlukan pelesapan haba atau kekonduksian elektrik.

Kekuatan mekanikal yang sangat baik: Kekuatan mekanikal grafit berliang adalah berkaitan dengan struktur liang dan proses pembuatannya. Kekuatan mekanikal grafit berliang tidak sebaik grafit tidak berliang, tetapi sifat mekanikalnya masih sangat baik.

Kelalaian kimia: Sebagai produk grafit, grafit berliang adalah lengai secara kimia dan boleh berfungsi dalam persekitaran yang menghakis. Lengai kimia membantu grafit berliang digunakan dalam proses kimia yang memerlukan rintangan kepada asid, bes dan pelarut.

Kebolehkilangan dan kebolehsesuaian yang tinggi: Struktur liang grafit berliang boleh disesuaikan dalam pelbagai cara. Teknik seperti pemendapan wap kimia boleh digunakan untuk mencapai saiz liang dan pengedaran yang dikehendaki oleh pelanggan.

Aplikasi Grafit Berliang Termaju:

Pertumbuhan kristal SiC: Kajian telah menunjukkan bahawa dalam pertumbuhan kristal SiC, penggunaan grafit berliang membantu mengurangkan bilangan mikrotubul dan kecacatan lain, dan mengurangkan kandungan unsur kekotoran dalam kristal, jadi grafit berliang boleh membawa bantuan besar dalam pengeluaran kristal SIC.

Pembuatan wafer: Oleh kerana kekonduksian terma yang sangat baik dan rintangan kakisan, grafit berliang boleh digunakan untuk mengeluarkan pembawa wafer seperti bot grafit dan chuck grafit. Grafit berliang mampu berfungsi secara stabil dalam persekitaran suhu tinggi, membantu wafer mengekalkan taburan suhu yang seragam, sekali gus memastikan ketepatan pemprosesan.

Pemendapan wap kimia (CVD) : Grafit berliang tahan kepada suhu tinggi dan lengai secara kimia, jadi ia sering digunakan sebagai pelapik reaktor dan bahan elektrod sebagai sebahagian daripada proses CVD untuk menggalakkan pemendapan filem berkualiti tinggi.

Pelesapan haba peranti semikonduktor: Kekonduksian terma yang sangat baik bagi grafit berliang menjadikannya pilihan ideal untuk penyelesaian pelesapan haba dalam peranti semikonduktor. Ia boleh dijadikan bahan sink haba atau antara muka haba untuk membantu pelesapan haba yang cepat dan meningkatkan kecekapan kerja dan hayat peranti.

Proses goresan dan goresan: Dalam proses etsa kering pembuatan semikonduktor, grafit berliang boleh digunakan sebagai bahan elektrod atau bahan katod, dan rintangan kakisan dan kekonduksian elektrik membantunya menahan hakisan plasma menghakis, memastikan kestabilan dan ketepatan proses etsa.

Aplikasi ketulenan tinggi: Grafit berliang ditapis untuk memenuhi keperluan ketat industri semikonduktor untuk ketulenan bahan dan mengurangkan kesan kekotoran

Sebagai pengilang dan pembekal Graphite Poros Lanjutan profesional di China, VeTek Semiconductor juga menyediakan pelbagai produk grafit berkualiti tinggi, sepertiGrafit Berliang Salutan TaC, Grafit Isotropik, Grafit silikon, Lembaran Grafit Ketulenan Tinggi, Grafit Berliang Pertumbuhan Kristal SiC, dsb., dan menyokong teknologi tersuai dan penyelesaian produk. Kami amat berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China dan mengalu-alukan untuk perundingan anda pada bila-bila masa.