Grafit berliang

Sebagai seorang profesionalGrafit berliangpengilangdi China,Grafit berliangyang dihasilkan oleh VeTek Semiconductor ialah bahan guna guna utama dalam proses pembuatan semikonduktor, dan prestasinya secara langsung mempengaruhi kualiti dan kebolehpercayaan peranti semikonduktor. Dialu-alukan untuk berunding dengan lebih lanjut.

Semikonduktor VeTekGrafit berliangmemainkan peranan yang tidak boleh ditukar ganti dalam pemprosesan semikonduktor, seperti berikut:

Bekas lebur suhu tinggi: Takat lebur yang tinggi bagi Porous Graphite membolehkannya menahan proses lebur suhu tinggi bahan semikonduktor, manakala struktur berliang dengan berkesan menghalang penjanaan buih dan memastikan ketulenan tinggi leburan.

Pembawa perlindungan atmosfera: Grafit berliang boleh memberikan suasana lengai yang agak stabil, mengurangkan sentuhan antara leburan dan persekitaran luaran, dan mengelakkan pengoksidaan dan pencemaran.

Medium pemindahan haba: Kekonduksian terma yang sangat baik bagi Porous Graphite memastikan pengedaran seragam suhu cair dan kondusif kepada pertumbuhan kristal yang seragam.

Sokongan dan penetapan: Graphite Crucible menyediakan sokongan yang stabil untuk leburan untuk mengelakkan ubah bentuknya.

Saluran resapan gas: Struktur Porous Graphite menyediakan saluran resapan untuk gas yang dihasilkan dalam leburan, yang membantu mengurangkan tekanan gas dan mengelakkan kecacatan kristal.

Sebagai pengilang profesionalGaN pada penerima epi SiC, Grafit berliangdanPlat Salutan TaCdi China, VeTek Semiconductor sentiasa berkeras untuk menyediakan perkhidmatan produk tersuai, dan komited untuk menyediakan industri dengan penyelesaian teknologi dan produk terbaik. Kami amat mengharapkan perundingan anda.

Grafit berliangsifat fizikal:

Kedai pengeluaran Grafit berliang:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor：