Reseptor MOCVD Aixtron

Susceptors yang dihasilkan olehSemikonduktor Vetekdiperbuat daripada substrat grafit dan bahan salutan silikon karbida (SiC). Memandangkan rintangan haus yang lebih tinggi, rintangan kakisan dan kekerasan bahan SiC yang sangat tinggi, ia amat sesuai digunakan dalam persekitaran proses yang keras. Oleh itu, Susceptors yang dihasilkan oleh Vetek Semiconductor boleh digunakan secara langsung dalam proses MOCVD suhu tinggi tanpa rawatan permukaan tambahan.

Susceptor adalah komponen utama dalam pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam peralatan MOCVD untuk proses pemendapan filem nipis. Peranan utamaPenerima SiC Aixtrondalam proses MOCVD adalah untuk membawa wafer semikonduktor, memastikan pemendapan yang seragam dan berkualiti tinggi bagi filem nipis dengan menyediakan pengagihan haba yang seragam dan persekitaran tindak balas, dengan itu mencapai pengeluaran filem nipis berkualiti tinggi.

Reseptor MOCVD Aixtronbiasanya digunakan untuk menyokong dan menetapkan asas wafer semikonduktor untuk memastikan kestabilan wafer semasa proses pemendapan. Pada masa yang sama, salutan permukaan Aixtron MOCVD Susceptor diperbuat daripada silikon karbida (SiC), bahan konduktif yang sangat terma. Salutan SiC memastikan suhu seragam pada permukaan wafer, dan pemanasan seragam adalah penting untuk mendapatkan filem berkualiti tinggi.

Lebih-lebih lagi,Reseptor MOCVD Aixtronkami menghasilkan memainkan peranan yang lebih besar dalam mengawal aliran dan pengedaran gas reaktif melalui reka bentuk bahan yang dioptimumkan. Elakkan arus pusar dan kecerunan suhu untuk mencapai pemendapan filem yang seragam.

Lebih penting lagi, dalam proses MOCVD, bahan salutan silikon karbida (SiC) mempunyai rintangan kakisan, jadiSemikonduktor Vetek'sReseptor MOCVD Aixtronjuga boleh menahan suhu tinggi dan gas menghakis.

Sifat fizikal asas bagiSIC COATING:

Kedai Bot Wafer Semiconductor VeTek:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor: