Suseptor Salutan SiC

Vetek Semiconductor memberi tumpuan kepada penyelidikan dan pembangunan serta perindustrian salutan CVD SiC dan salutan CVD TaC. Mengambil susceptor salutan SiC sebagai contoh, produk ini sangat diproses dengan ketepatan tinggi, salutan SIC CVD padat, rintangan suhu tinggi dan rintangan kakisan yang kuat. Siasatan kepada kami adalah dialu-alukan.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Anda boleh yakin untuk membeli susceptor salutan SiC dari kilang kami.

Sebagai pengeluar salutan CVD SiC, VeTek Semiconductor ingin memberikan anda Susceptor Salutan SiC yang diperbuat daripada grafit ketulenan tinggi dan susceptor salutan SiC (di bawah 5ppm). Selamat datang untuk bertanya kepada kami.

Di Vetek Semiconductor, kami pakar dalam penyelidikan teknologi, pembangunan dan pembuatan, menawarkan rangkaian produk termaju untuk industri. Barisan produk utama kami termasuk salutan CVD SiC+grafit ketulenan tinggi, susceptor salutan SiC, kuarza semikonduktor, salutan CVD TaC+grafit ketulenan tinggi, rasa tegar dan bahan lain.

Salah satu produk utama kami ialah SiC Coating Susceptor, dibangunkan dengan teknologi inovatif untuk memenuhi keperluan ketat pengeluaran wafer epitaxial. Wafer epitaxial mesti mempamerkan taburan panjang gelombang yang ketat dan tahap kecacatan permukaan yang rendah, menjadikan suseptor salutan SiC kami sebagai komponen penting dalam mencapai parameter penting ini.

Kelebihan Susceptor Salutan SiC kami:

Perlindungan Bahan Asas: Salutan SiC CVD bertindak sebagai lapisan pelindung semasa proses epitaxial, dengan berkesan melindungi bahan asas daripada hakisan dan kerosakan yang disebabkan oleh persekitaran luaran. Langkah perlindungan ini memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan.

Kekonduksian Terma Cemerlang: Salutan SiC CVD kami mempunyai kekonduksian terma yang luar biasa, memindahkan haba dari bahan asas ke permukaan salutan dengan cekap. Ini meningkatkan kecekapan pengurusan haba semasa epitaksi, memastikan suhu operasi optimum untuk peralatan.

Kualiti Filem yang Dipertingkatkan: Salutan SiC CVD menyediakan permukaan yang rata dan seragam, mewujudkan asas yang ideal untuk pertumbuhan filem. Ia mengurangkan kecacatan akibat ketidakpadanan kekisi, meningkatkan kehabluran dan kualiti filem epitaxial, dan akhirnya meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaannya.

Pilih Susceptor Salutan SiC kami untuk keperluan pengeluaran wafer epitaxial anda, dan manfaatkan perlindungan yang dipertingkatkan, kekonduksian terma yang unggul dan kualiti filem yang dipertingkatkan. Percaya kepada penyelesaian inovatif VeTek Semiconductor untuk memacu kejayaan anda dalam industri semikonduktor.

Sifat fizikal asas salutan CVD SiC:

Sifat fizikal asas salutan SiC CVD
Harta benda	Nilai Biasa
Struktur Kristal	Polihablur fasa FCC β, terutamanya berorientasikan (111).
Ketumpatan	3.21 g/cm³
Kekerasan	2500 Vickers kekerasan（500g beban）
Saiz bijirin	2~10μm
Ketulenan Kimia	99.99995%
Kapasiti Haba	640 J·kg-1·K-1
Suhu Sublimasi	2700 ℃
Kekuatan lenturan	415 MPa RT 4 mata
Modulus Muda	430 Gpa selekoh 4pt, 1300℃
Kekonduksian terma	300W·m-1·K-1
Pengembangan Terma(CTE)	4.5×10-6K-1