Rumah > Produk > Salutan Silikon Karbida > Silikon Karbida Pepejal > Cincin Fokus Etching SiC Pepejal
Cincin Fokus Etching SiC Pepejal
  • Cincin Fokus Etching SiC PepejalCincin Fokus Etching SiC Pepejal
  • Cincin Fokus Etching SiC PepejalCincin Fokus Etching SiC Pepejal
  • Cincin Fokus Etching SiC PepejalCincin Fokus Etching SiC Pepejal

Cincin Fokus Etching SiC Pepejal

VeTek Semiconductor ialah pengilang dan inovator Cincin Fokus Etching Solid SiC terkemuka di China. Kami telah mengkhususkan diri dalam bahan SiC selama bertahun-tahun. Solid SiC dipilih sebagai bahan cincin fokus kerana kestabilan termokimia yang sangat baik, kekuatan mekanikal yang tinggi dan ketahanan terhadap plasma hakisan.Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Anda boleh yakin untuk membeli Solid SiC Etching Focusing Ring dari kilang kami. Teknologi revolusioner VeTek Semiconductor membolehkan pengeluaran Solid SiC Etching Focusing Ring, bahan silikon karbida ketulenan ultra tinggi yang dicipta melalui proses Pemendapan Wap Kimia.

Cincin fokus etsa SiC pepejal digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam sistem etsa plasma. Cincin pemfokusan goresan SiC pepejal ialah komponen penting yang membantu mencapai goresan wafer silikon karbida (SiC) yang tepat dan terkawal.


Semasa proses etsa plasma, cincin fokus memainkan pelbagai peranan:

1. Memfokuskan plasma: Gelang fokus goresan SiC pepejal membantu membentuk dan menumpukan plasma di sekeliling wafer, memastikan proses goresan berlaku secara seragam dan cekap. Ia membantu mengehadkan plasma ke kawasan yang dikehendaki, mencegah goresan sesat atau kerosakan pada kawasan sekitar.

2. Melindungi dinding ruang: Cincin pemfokus bertindak sebagai penghalang antara plasma dan dinding ruang, menghalang sentuhan langsung dan kemungkinan kerosakan. SiC sangat tahan terhadap hakisan plasma dan memberikan perlindungan yang sangat baik untuk dinding ruang.

3. Kawalan suhu: Cincin pemfokusan membantu dalam mengekalkan pengedaran suhu seragam merentasi wafer semasa proses etsa. Ia membantu menghilangkan haba dan menghalang pemanasan terlampau setempat atau kecerunan terma yang boleh menjejaskan hasil goresan.

SiC pepejal dipilih untuk cincin pemfokusan kerana kestabilan terma dan kimianya yang luar biasa, kekuatan mekanikal yang tinggi dan ketahanan terhadap hakisan plasma. Sifat-sifat ini menjadikan SiC sebagai bahan yang sesuai untuk keadaan yang keras dan menuntut di dalam sistem etsa plasma.

Perlu diingat bahawa reka bentuk dan spesifikasi cincin pemfokus boleh berbeza-beza bergantung pada sistem etsa plasma dan keperluan proses tertentu. VeTek Semiconductor mengoptimumkan bentuk, dimensi dan ciri permukaan cincin pemfokus untuk memastikan prestasi goresan yang optimum dan panjang umur. Solid SiC digunakan secara meluas untuk pembawa wafer, susceptor, wafer dummy, cincin panduan, bahagian untuk proses etsa, proses CVD, dsb.


Parameter produk Cincin Fokus Etching SiC pepejal

Sifat fizikal SiC Pepejal
Ketumpatan 3.21 g/cm3
Kerintangan Elektrik 102 Ω/cm
Kekuatan lenturan 590 MPa (6000kgf/cm2)
Modulus Muda 450 GPa (6000kgf/mm2)
Kekerasan Vickers 26 GPa (2650kgf/mm2)
C.T.E.(RT-1000℃) 4.0 x10-6/K
Kekonduksian Terma(RT) 250 W/mK


Kedai Pengeluaran Semikonduktor VeTek


Teg Panas: Cincin Fokus Etching SiC Pepejal, China, Pengilang, Pembekal, Kilang, Disesuaikan, Beli, Termaju, Tahan Lama, Buatan China
Kategori Berkaitan
Hantar Pertanyaan
Sila berasa bebas untuk memberikan pertanyaan anda dalam borang di bawah. Kami akan membalas anda dalam masa 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept