Cincin Fokus Goresan SiC Pepejal ialah salah satu komponen teras proses goresan wafer, yang memainkan peranan dalam membetulkan wafer, memfokuskan plasma dan meningkatkan keseragaman goresan wafer. Sebagai pengeluar Cincin Fokus SiC terkemuka di China, VeTek Semiconductor mempunyai teknologi canggih dan proses matang, dan mengeluarkan Cincin Fokus Etching SiC Pepejal yang memenuhi sepenuhnya keperluan pelanggan akhir mengikut keperluan pelanggan. Kami menantikan pertanyaan anda dan menjadi rakan kongsi jangka panjang antara satu sama lain.
VeTek Semiconductor telah mencapai kemajuan yang besar dalam teknologi CVD Solid SiC dan kini mampu menghasilkan Solid SiC Etching Focusing Ring dengan tahap terkemuka dunia. Cincin Fokus Goresan SiC Pepejal Semikonduktor VeTek ialah produk bahan silikon karbida ketulenan ultra tinggi yang dicipta melalui proses Pemendapan Wap Kimia.
Cincin fokus etsa SiC pepejal digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam sistem etsa plasma. Cincin fokus SiC ialah komponen penting yang membantu mencapai pengetsaan wafer silikon karbida (SiC) yang tepat dan terkawal.
● Memfokuskan plasma: Gelang fokus goresan SiC pepejal membantu membentuk dan menumpukan plasma di sekeliling wafer, memastikan proses goresan berlaku secara seragam dan cekap. Ia membantu mengehadkan plasma ke kawasan yang dikehendaki, mencegah goresan sesat atau kerosakan pada kawasan sekitar.
● Melindungi dinding ruang: Cincin pemfokusan bertindak sebagai penghalang antara plasma dan dinding ruang, menghalang sentuhan langsung dan kemungkinan kerosakan. SiC sangat tahan terhadap hakisan plasma dan memberikan perlindungan yang sangat baik untuk dinding ruang.
● Tkawalan suhu: Cincin fokus sic membantu dalam mengekalkan pengedaran suhu seragam merentasi wafer semasa proses etsa. Ia membantu menghilangkan haba dan menghalang pemanasan terlampau setempat atau kecerunan terma yang boleh menjejaskan hasil goresan.
SiC pepejal dipilih untuk cincin pemfokusan kerana kestabilan terma dan kimianya yang luar biasa, kekuatan mekanikal yang tinggi dan ketahanan terhadap hakisan plasma. Sifat-sifat ini menjadikan SiC sebagai bahan yang sesuai untuk keadaan yang keras dan menuntut di dalam sistem etsa plasma.
Perlu diingat bahawa reka bentuk dan spesifikasi cincin pemfokus boleh berbeza-beza bergantung pada sistem etsa plasma tertentu dan keperluan proses. VeTek Semiconductor mengoptimumkan bentuk, dimensi dan ciri-ciri permukaan cincin pemfokus untuk memastikan prestasi goresan dan jangka hayat yang optimum. SiC pepejal digunakan secara meluas untuk pembawa wafer, susceptor, wafer dummy, cincin panduan, bahagian untuk proses etsa, proses CVD, dll.
Sifat fizikal SiC Pepejal | |||
Ketumpatan | 3.21 | g/cm3 | |
Kerintangan Elektrik | 102 | Ω/cm | |
Kekuatan lentur | 590 | MPa | (6000kgf/cm2) |
Modulus Muda | 450 | GPa | (6000kgf/mm2) |
Kekerasan Vickers | 26 | GPa | (2650kgf/mm2) |
C.T.E.(RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
Kekonduksian Terma(RT) | 250 | W/mK |