Penerima ALD

VeTek Semiconductor ialah pengilang profesional ALD Susceptor, salutan CVD SiC, asas grafit COATING CVD TAC di China. Vetek Semiconductor bersama-sama membangunkan dan menghasilkan pangkalan planet ALD bersalut SiC dengan pengeluar sistem ALD untuk memenuhi keperluan tinggi proses ALD dan mengagihkan aliran udara secara sama rata pada substrat. Kami mengharapkan kerjasama selanjutnya dengan anda.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Sebagai seorang profesionalPenerima ALDpengilang di China, produk kamiPenerima ALDkawalan suhu yang tepat, pengedaran gas seragam dan kekonduksian terma yang sangat baik dan ciri-ciri produk lain menentukannyaPenerima ALDmemainkan peranan penting dalam proses pemendapan lapisan atom (ALD). Peranan penting, mengalu-alukan perundingan anda.

Pemendapan filem nipis seragam:ALD Susceptor memastikan pemendapan seragam lapisan atom di seluruh permukaan wafer semasa proses pemendapan lapisan atom (ALD). Reka bentuk berputarnya yang unik membolehkan gas dan bahan tindak balas menyentuh permukaan wafer secara sama rata, menghasilkan ketebalan filem yang seragam. Ini penting untuk pembuatan semikonduktor berketepatan tinggi.

Meningkatkan kualiti pemendapan: Dengan mengoptimumkan kawalan suhu dan pengedaran gas, ALD Susceptor meningkatkan kualiti dan prestasi filem dengan ketara, mengurangkan kecacatan dan ketidakseragaman. Ini menjadikannya sesuai untuk pembuatan semikonduktor dan peranti elektronik berketepatan tinggi, memastikan kebolehpercayaan dan prestasi produk.

Menyokong pemprosesan berbilang wafer: Reka bentuk ALD Susceptor tertentu membenarkan berbilang wafer diproses secara serentak, meningkatkan kecekapan pengeluaran. Ini amat penting untuk persekitaran pembuatan berkemampuan tinggi, yang mampu memenuhi keperluan pengeluaran berskala besar.

Menampung pelbagai saiz dan jenis wafer:ALD Susceptors umumnya direka bentuk untuk keserasian yang tinggi dan boleh menyokong saiz dan jenis wafer yang berbeza. Ini menjadikannya berkesan dalam pelbagai proses pengeluaran, memberikan lebih fleksibiliti dan kebolehsuaian.

Kurangkan kos pengeluaran:Disebabkan oleh pengedaran gas yang cekap dan keupayaan pemanasan seragam, ALD Susceptor meningkatkan kecekapan proses pemendapan, dengan itu mengurangkan sisa bahan dan kos pengeluaran. Ini bukan sahaja membantu meningkatkan kecekapan pengeluaran tetapi juga mengurangkan kos pembuatan dengan ketara.

Sifat fizikal asas salutan SiC CVD: