Suseptor ALD salutan SiC

Semikonduktor VeTekSuseptor ALD salutan SiCmemainkan peranan penting dalam pemendapan lapisan atom (ALD) proses. Kawalan suhu yang tepat, pengedaran gas seragam, rintangan kimia yang tinggi dan kekonduksian terma yang sangat baik memastikan keseragaman dan kualiti tinggi proses pemendapan filem. Jika anda ingin mengetahui lebih lanjut, anda boleh berunding dengan kami dengan segera dan kami akan membalas anda dalam masa!

Kawalan suhu yang tepat:

Susceptor ALD salutan SiC biasanya mempunyai sistem kawalan suhu berketepatan tinggi. Ia mampu mengekalkan persekitaran suhu yang seragam sepanjang proses pemendapan, yang penting untuk memastikan keseragaman dan kualiti filem.

Pengagihan gas seragam:

Reka bentuk optimum susceptor ALD salutan SiC memastikan pengagihan gas yang seragam semasa proses pemendapan ALD. Strukturnya biasanya termasuk berbilang bahagian berputar atau bergerak untuk menggalakkan liputan seragam gas reaktif di seluruh permukaan wafer.

Rintangan kimia yang tinggi:

Memandangkan proses ALD melibatkan pelbagai gas kimia, susceptor ALD salutan SiC biasanya diperbuat daripada bahan tahan kakisan (seperti platinum, seramik atau kuarza ketulenan tinggi) untuk menahan hakisan gas kimia dan pengaruh persekitaran suhu tinggi.

Kekonduksian haba yang sangat baik:

Untuk menjalankan haba dengan berkesan dan mengekalkan suhu pemendapan yang stabil, suseptor ALD salutan SiC biasanya menggunakan bahan kekonduksian terma yang tinggi. Ini membantu mengelakkan terlalu panas setempat dan pemendapan tidak sekata.

Sifat fizikal asas salutan SiC CVD:

Kedai pengeluaran:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor：