Salutan TAC CVD

VeTek Semiconductor ialah pengeluar terkemuka, inovator dan peneraju Pelapisan TAC CVD di China. Selama bertahun-tahun, kami telah memberi tumpuan kepada pelbagai produk Salutan TAC CVD seperti penutup salutan CVD TaC, Cincin Salutan CVD TaC, pembawa Salutan TaC CVD, dan lain-lain. VeTek Semiconductor menyokong perkhidmatan produk yang disesuaikan dan harga produk yang memuaskan, dan berharap untuk anda selanjutnya perundingan.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Salutan TaC CVD (salutan tantalum karbida pemendapan wap kimia) ialah produk salutan yang terutamanya terdiri daripada tantalum karbida (TaC). Salutan TaC mempunyai kekerasan yang sangat tinggi, rintangan haus dan rintangan suhu tinggi, menjadikannya pilihan ideal untuk melindungi komponen peralatan utama dan meningkatkan kebolehpercayaan proses. Ia adalah bahan yang sangat diperlukan dalam pemprosesan semikonduktor.

Produk Salutan TaC CVD biasanya digunakan dalam ruang tindak balas, pembawa wafer, dan peralatan etsa, dan memainkan peranan penting berikut di dalamnya.

Salutan CVD TaC sering digunakan untuk komponen dalaman ruang tindak balas seperti substrat, panel dinding dan elemen pemanasan. Digabungkan dengan rintangan suhu tinggi yang sangat baik, ia dapat menahan hakisan suhu tinggi, gas menghakis dan plasma secara berkesan, dengan itu memanjangkan hayat perkhidmatan peralatan dengan berkesan dan memastikan kestabilan proses dan ketulenan pengeluaran produk.

Di samping itu, pembawa wafer bersalut TaC (seperti bot kuarza, lekapan, dll.) juga mempunyai rintangan haba yang sangat baik dan rintangan kakisan kimia. Pembawa wafer boleh memberikan sokongan yang boleh dipercayai untuk wafer pada suhu tinggi, mencegah pencemaran dan ubah bentuk wafer, dan dengan itu meningkatkan hasil cip keseluruhan.

Selain itu, salutan TaC Semiconductor VeTek juga digunakan secara meluas dalam pelbagai peralatan etsa dan pemendapan filem nipis, seperti etsa plasma, sistem pemendapan wap kimia, dll. Dalam sistem pemprosesan ini, Salutan TAC CVD boleh menahan pengeboman ion bertenaga tinggi dan tindak balas kimia yang kuat , dengan itu memastikan ketepatan dan kebolehulangan proses.

Walau apa pun keperluan khusus anda, kami akan memadankan penyelesaian terbaik untuk keperluan Pelapisan TAC CVD anda dan mengharapkan perundingan anda pada bila-bila masa.

Sifat fizikal asas Salutan TAC CVD:

Sifat fizikal salutan TaC
Ketumpatan	14.3 (g/cm³)
Pemancaran khusus	0.3
Pekali pengembangan terma	6.3 10-6/K
Kekerasan (HK)	2000 HK
Rintangan	1×10-5 Ohm*cm
Kestabilan terma	<2500 ℃
Perubahan saiz grafit	-10~-20um
Ketebalan salutan	≥20um nilai biasa (35um±10um)