Pembawa Wafer SiC Mendatar

Semikonduktor VeTekPembawa Wafer SiC Mendatar/Boat mempunyai takat lebur yang sangat tinggi (kira-kira 2700°C), yang membolehkanPembawa Wafer SiC Mendatar/Boat berfungsi dengan stabil dalam persekitaran suhu tinggi tanpa ubah bentuk atau degradasi. Ciri ini amat penting dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam proses seperti penyepuhlindapan suhu tinggi atau pemendapan wap kimia (CVD).

ThePembawa Wafer SiC Mendatar/Boat secara khusus memainkan peranan berikut dalam proses membawa pembawa wafer:

Wafer silikon membawa dan menyokong: Bot Wafer SiC Horizontal digunakan terutamanya untuk membawa dan menyokong wafer silikon semasa pembuatan semikonduktor. Ia boleh menyusun beberapa wafer silikon bersama-sama untuk memastikan ia kekal dalam kedudukan yang baik dan kestabilan sepanjang keseluruhan proses pemprosesan.

Pemanasan dan penyejukan seragam: Oleh kerana kekonduksian terma SiC yang tinggi, Bot Wafer boleh mengagihkan haba secara sekata kepada semua wafer silikon dengan berkesan. Ini membantu mencapai pemanasan seragam atau penyejukan wafer silikon semasa pemprosesan suhu tinggi, memastikan ketekalan dan kebolehpercayaan proses pemprosesan.

Cegah pencemaran: Kestabilan kimia SiC membolehkannya berfungsi dengan baik dalam persekitaran gas bersuhu tinggi dan menghakis, dengan itu mengurangkan pendedahan wafer silikon kepada bahan cemar atau bahan tindak balas yang mungkin, memastikan ketulenan dan kualiti wafer silikon.

Malah, Bot Wafer SiC Horizontal boleh memainkan peranan di atas kerana ciri-ciri produknya yang unik:

Kestabilan kimia yang sangat baik: Bahan SiC mempunyai ketahanan kakisan yang sangat baik terhadap pelbagai media kimia. Dalam proses memproses gas atau cecair yang menghakis, SiC Wafer Boat boleh menahan kakisan kimia secara berkesan dan melindungi wafer silikon daripada pencemaran atau kerosakan.

Kekonduksian haba yang tinggi: Kekonduksian terma yang tinggi SiC membantu mengagihkan haba secara sama rata dalam proses pembawa dan mengurangkan pengumpulan haba. Ini boleh meningkatkan ketepatan kawalan suhu semasa pemprosesan ketepatan dan memastikan pemanasan seragam atau penyejukan wafer silikon.

Pekali pengembangan haba yang rendah: Pekali pengembangan haba bahan SiC yang rendah bermakna perubahan dimensi Bot Wafer SiC adalah sangat kecil semasa perubahan suhu. Ini membantu mengekalkan kestabilan dimensi semasa pemprosesan suhu tinggi dan menghalang ubah bentuk atau anjakan kedudukan wafer silikon yang disebabkan oleh pengembangan haba.

Sifat fizikal asas Pembawa Wafer SiC Mendatar:

Kedai Pengeluaran Semikonduktor VeTek:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor: