Adakah anda tahu tentang MOCVD Susceptor?

Dalam proses pemendapan wap kimia logam-organik (MOCVD), suceptor adalah komponen utama yang bertanggungjawab untuk menyokong wafer dan memastikan keseragaman dan kawalan tepat bagi proses pemendapan. Pemilihan bahan dan ciri produknya secara langsung mempengaruhi kestabilan proses epitaxial dan kualiti produk.

Penerima MOCVD(Pemendapan Wap Kimia Logam-Organik) ialah komponen proses utama dalam pembuatan semikonduktor. Ia digunakan terutamanya dalam proses MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) untuk menyokong dan memanaskan wafer untuk pemendapan filem nipis. Reka bentuk dan pemilihan bahan suceptor adalah penting untuk keseragaman, kecekapan dan kualiti produk akhir.

Jenis Produk dan Pemilihan Bahan:

Reka bentuk dan pemilihan bahan MOCVD Susceptor adalah pelbagai, biasanya ditentukan oleh keperluan proses dan keadaan tindak balas.Berikut adalah jenis produk biasa dan bahannya:

Suseptor Bersalut SiC(Susceptor Bersalut Silikon Karbida):

Penerangan: Susceptor dengan salutan SiC, dengan grafit atau bahan suhu tinggi yang lain sebagai substrat, dan salutan SiC CVD (CVD SiC Coating) pada permukaan untuk meningkatkan rintangan haus dan rintangan kakisannya.

Aplikasi: Digunakan secara meluas dalam proses MOCVD dalam suhu tinggi dan persekitaran gas yang sangat menghakis, terutamanya dalam epitaksi silikon dan pemendapan semikonduktor kompaun.

Susceptor Bersalut TaC:

Penerangan: Susceptor dengan salutan TaC (CVD TaC Coating) sebagai bahan utama mempunyai kekerasan yang sangat tinggi dan kestabilan kimia dan sesuai untuk digunakan dalam persekitaran yang sangat menghakis.

Aplikasi: Digunakan dalam proses MOCVD yang memerlukan rintangan kakisan dan kekuatan mekanikal yang lebih tinggi, seperti pemendapan gallium nitride (GaN) dan gallium arsenide (GaAs).

Susceptor Grafit Bersalut Silikon Karbida untuk MOCVD:

Penerangan: Substrat adalah grafit, dan permukaannya ditutup dengan lapisan salutan CVD SiC untuk memastikan kestabilan dan jangka hayat yang panjang pada suhu tinggi.

Aplikasi: Sesuai untuk digunakan dalam peralatan seperti reaktor Aixtron MOCVD untuk mengeluarkan bahan semikonduktor kompaun berkualiti tinggi.

Reseptor EPI (Reseptor Epitaksi):

Penerangan: Susceptor direka khas untuk proses pertumbuhan epitaxial, biasanya dengan Salutan SiC atau Salutan TaC untuk meningkatkan kekonduksian terma dan ketahanannya.

Permohonan: Dalam epitaksi silikon dan epitaksi semikonduktor kompaun, ia digunakan untuk memastikan pemanasan seragam dan pemendapan wafer.

Peranan utama Susceptor untuk MOCVD dalam pemprosesan semikonduktor:

Sokongan wafer dan pemanasan seragam:

Fungsi: Susceptor digunakan untuk menyokong wafer dalam reaktor MOCVD dan menyediakan pengagihan haba yang seragam melalui pemanasan aruhan atau kaedah lain untuk memastikan pemendapan filem seragam.

Pengaliran haba dan kestabilan:

Fungsi: Kekonduksian terma dan kestabilan terma bahan Susceptor adalah penting. Susceptor Bersalut SiC dan Susceptor Bersalut TaC boleh mengekalkan kestabilan dalam proses suhu tinggi kerana kekonduksian haba yang tinggi dan rintangan suhu tinggi, mengelakkan kecacatan filem yang disebabkan oleh suhu tidak sekata.

Rintangan kakisan dan jangka hayat yang panjang:

Fungsi: Dalam proses MOCVD, Susceptor terdedah kepada pelbagai gas prekursor kimia. Salutan SiC dan Salutan TaC memberikan rintangan kakisan yang sangat baik, mengurangkan interaksi antara permukaan bahan dan gas tindak balas, dan memanjangkan hayat perkhidmatan Susceptor.

Pengoptimuman persekitaran tindak balas:

Fungsi: Dengan menggunakan Susceptors berkualiti tinggi, medan aliran gas dan suhu dalam reaktor MOCVD dioptimumkan, memastikan proses pemendapan filem seragam dan meningkatkan hasil dan prestasi peranti. Ia biasanya digunakan dalam Susceptors untuk Reaktor MOCVD dan peralatan Aixtron MOCVD.

Ciri-ciri Produk dan Kelebihan Teknikal：

Kekonduksian haba yang tinggi dan kestabilan haba:

Ciri-ciri: Susceptors bersalut SiC dan TaC mempunyai kekonduksian terma yang sangat tinggi, boleh mengagihkan haba dengan cepat dan sekata, dan mengekalkan kestabilan struktur pada suhu tinggi untuk memastikan pemanasan seragam wafer.

Kelebihan: Sesuai untuk proses MOCVD yang memerlukan kawalan suhu yang tepat, seperti pertumbuhan epitaxial semikonduktor kompaun seperti gallium nitride (GaN) dan gallium arsenide (GaAs).

Rintangan kakisan yang sangat baik:

Ciri-ciri: Salutan SiC CVD dan Salutan TaC CVD mempunyai kelenturan kimia yang sangat tinggi dan boleh menahan kakisan daripada gas yang sangat menghakis seperti klorida dan fluorida, melindungi substrat Susceptor daripada kerosakan.

Kelebihan: Memanjangkan hayat perkhidmatan Susceptor, mengurangkan kekerapan penyelenggaraan dan meningkatkan kecekapan keseluruhan proses MOCVD.

Kekuatan dan kekerasan mekanikal yang tinggi:

Ciri-ciri: Kekerasan tinggi dan kekuatan mekanikal salutan SiC dan TaC membolehkan Susceptor menahan tekanan mekanikal dalam persekitaran suhu tinggi dan tekanan tinggi serta mengekalkan kestabilan dan ketepatan jangka panjang.

Kelebihan: Sangat sesuai untuk proses pembuatan semikonduktor yang memerlukan ketepatan tinggi, seperti pertumbuhan epitaxial dan pemendapan wap kimia.

Aplikasi Pasaran dan Prospek Pembangunan

Susceptors MOCVDdigunakan secara meluas dalam pembuatan LED kecerahan tinggi, peranti elektronik kuasa (seperti HEMT berasaskan GaN), sel suria dan peranti optoelektronik lain. Dengan peningkatan permintaan untuk prestasi yang lebih tinggi dan peranti semikonduktor penggunaan kuasa yang lebih rendah, teknologi MOCVD terus maju, memacu inovasi dalam bahan dan reka bentuk Susceptor. Contohnya, membangunkan teknologi salutan SiC dengan ketulenan yang lebih tinggi dan ketumpatan kecacatan yang lebih rendah, dan mengoptimumkan reka bentuk struktur Susceptor untuk menyesuaikan diri dengan wafer yang lebih besar dan proses epitaxial berbilang lapisan yang lebih kompleks.

VeTek semikonduktor Technology Co., LTD ialah pembekal terkemuka bahan salutan termaju untuk industri semikonduktor. fokus syarikat kami untuk membangunkan penyelesaian termaju untuk industri.

Tawaran produk utama kami termasuk salutan silikon karbida (SiC) CVD, salutan tantalum karbida (TaC), salutan SiC pukal, serbuk SiC, dan bahan SiC ketulenan tinggi, susceptor grafit bersalut SiC, gelang prapanas, gelang lencongan bersalut TaC, bahagian separuh bulan, dsb. ., ketulenan di bawah 5ppm, boleh memenuhi keperluan pelanggan.

Semikonduktor VeTek memberi tumpuan kepada membangunkan teknologi termaju dan penyelesaian pembangunan produk untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.