pemanas salutan seramik silikon karbida

Semikonduktor VeTekPemanas Salutan Seramik Silicon Carbide ialah pemanas yang direka untuk suhu tinggi dan persekitaran yang keras. Ia menyalut lapisan salutan seramik karbon silikon (SiC) pada permukaan elemen pemanasan untuk memberikan peralatan rintangan haba yang sangat baik, rintangan kakisan dan kekonduksian terma. 

Pemanas salutan seramik silikon karbidadigunakan terutamanya dalam peralatan salutan vakum (penyejatan). Kaedah yang biasa digunakan ialah PCD (Plasma Chemical Drying) dan PVD (Physical wap deposition), yang digunakan secara meluas dalam pembuatan semikonduktor dan aplikasi industri permintaan tinggi yang lain.

Digabungkan dengan reka bentuk salutan berprestasi tinggi Pemanas Salutan Seramik Silicon Carbide,ia boleh memberikan penyelesaian pemanasan yang sangat baik untuk proses suhu tinggi.

Kekonduksian haba yang sangat baik: Bahan SiC mempunyai kekonduksian terma yang sangat baik, memastikan bahawa pemanas boleh mencapai pengagihan haba yang seragam di kawasan kerja dan mengurangkan kecerunan suhu.

Menyediakan pengagihan haba yang seragam: Pemanas Salutan Seramik Silikon Karbida menggunakan kekonduksian terma yang tinggi bagi bahan SiC untuk mencapai pengedaran suhu seragam di seluruh kawasan pemanasan. Ini penting untuk memastikan rawatan haba seragam wafer semikonduktor dalam pelbagai proses suhu tinggi seperti pemprosesan terma pantas (RTP), resapan dan pengoksidaan, mengelakkan kecacatan produk yang disebabkan oleh terlalu panas tempatan atau suhu tidak sekata.

Toleransi suhu tinggi: Salutan SiC membolehkan pemanas menahan suhu yang sangat tinggi, biasanya sehingga 1600°C, sesuai untuk pelbagai proses pemprosesan suhu tinggi.

Meningkatkan rintangan haba: Oleh kerana salutan boleh menahan suhu yang sangat tinggi, ia berfungsi dengan baik dalam proses yang memerlukan operasi suhu tinggi jangka panjang. Sebagai contoh, dalam proses pemendapan wap kimia (CVD), Pemanas Salutan Seramik Silikon Karbida boleh memastikan operasi stabil jangka panjang peralatan pada suhu tinggi dan mengekalkan prestasi pemanasan yang konsisten, dengan itu meningkatkan kebolehulangan dan kebolehpercayaan proses.

Rintangan kakisan kimia: Salutan SiC mempunyai rintangan yang sangat tinggi terhadap asid, alkali dan gas menghakis, dan boleh kekal stabil untuk masa yang lama dalam persekitaran atmosfera kimia yang kompleks, memanjangkan hayat peralatan. 

Memanjangkan hayat peralatan: Salutan SiC mempunyai rintangan pengoksidaan dan rintangan kakisan yang sangat baik, dan boleh menahan hakisan dan pengoksidaan kimia dengan berkesan pada suhu tinggi. Ini sangat kritikal dalam proses pembuatan semikonduktor, terutamanya dalam persekitaran yang mengendalikan gas dan bahan kimia yang menghakis. Kesan perlindungan salutan boleh memanjangkan hayat perkhidmatan pemanas dengan ketara dan mengurangkan kekerapan penggantian peralatan dan kos penyelenggaraan.

Sifat fizikal asas pemanas salutan seramik silikon karbida:

Kedai pemanas salutan seramik silikon karbida Semikonduktor VeTek:

Gambaran keseluruhan rantaian industri epitaksi cip semikonduktor VeTek: