Sokongan Salutan Tantalum Carbide

Fungsi utama VeTek SemiconductorSalutan Tantalum Carbide (TaC).Sokongan adalah untuk menambah baikrintangan haba, rintangan haus dan rintangan kakisansubstrat dengan menyalut lapisan Tantalum Carbide Coating, untuk meningkatkan ketepatan dan kebolehpercayaan proses dan memanjangkan hayat perkhidmatan komponen. Ia adalah produk salutan berprestasi tinggi yang digunakan dalam bidang pemprosesan semikonduktor.

Suppor Salutan Tantalum Carbide Semikonduktor VeTek mempunyai kekerasan Mohs hampir 9~10, kedua selepas berlian. Ia mempunyai rintangan haus yang sangat kuat dan boleh menahan haus dan hentaman permukaan dengan berkesan semasa pemprosesan, dengan itu memanjangkan hayat perkhidmatan komponen peralatan dengan berkesan. Digabungkan dengan takat leburnya yang tinggi kira-kira 3880°C, ia sering digunakan untuk menyalut komponen utama peralatan semikonduktor, seperti salutan permukaan struktur sokongan, peralatan rawatan haba, ruang atau gasket dalam peralatan semikonduktor untuk meningkatkan rintangan haus dan suhu tinggi. rintangan.

Disebabkan oleh takat lebur Tantalum Carbide yang sangat tinggi iaitu kira-kira 3880°C, dalam proses pemprosesan semikonduktor sepertipemendapan wap kimia (CVD)danpemendapan wap fizikal (PVD), Salutan TaC dengan rintangan suhu tinggi yang kuat dan rintangan kakisan kimia boleh melindungi komponen peralatan dengan berkesan dan mencegah kakisan atau kerosakan pada substrat dalam persekitaran yang melampau, memberikan perlindungan yang berkesan untuk persekitaran suhu tinggi dalam pembuatan wafer. Ciri ini juga menentukan bahawa Sokongan Salutan Tantalum Carbide VeTek Semiconductor sering digunakan dalam proses etsa dan menghakis.

Sokongan Salutan Tantalum Carbide juga mempunyai fungsi mengurangkan pencemaran zarah. Semasa pemprosesan wafer, haus permukaan biasanya menghasilkan pencemaran zarah, yang menjejaskan kualiti produk wafer. Ciri-ciri produk melampau TaC Coating yang hampir dengan kekerasan 9-10 Mohs boleh mengurangkan kehausan ini dengan berkesan, sekali gus mengurangkan penjanaan zarah. Digabungkan dengan kekonduksian terma cemerlang TaC Coating (kira-kira 21 W/m·K), ia boleh mengekalkan kekonduksian terma yang baik di bawah keadaan suhu tinggi, sekali gus meningkatkan hasil dan konsistensi pembuatan wafer.

Produk TaC Coating utama VeTek Semiconductor termasukPemanas Salutan TaC, Pisau Salutan CVD TaC, Susceptor Putaran Salutan TaCdanAlat Ganti TaC Coating, dsb., dan menyokong perkhidmatan produk tersuai. VeTek Semiconductor komited untuk menyediakan produk yang cemerlang dan penyelesaian teknikal untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Salutan tantalum karbida (TaC) pada keratan rentas mikroskopik:

Sifat fizikal asas salutan TaC CVD：